蓝宝石晶片清洗设备

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蓝宝石晶片清洗设备郑佳晶孙敏张金凤摘要：介绍了蓝宝石晶片的清洗原理通过分析蓝宝石的表面净化原理和对湿法腐蚀清洗工艺试验的研究,提出了一种适用于工业化生产蓝宝石晶片的清洗剂和净化工艺,满足了领域的蓝宝石晶片表面洁净度要求。作者单位：中国电子科技集团公司第四十五研究所：蓝宝石晶片净化工艺清洗剂湿法腐蚀分类号：.正文快照：近二十年来,氮化镓基发光二极管-取得了飞跃式发展,并实现了大规模的产业化生产。-由于其高效、节能、环保等优越性能,将取代现有的白炽灯、荧光灯、卤化灯等而成为主流的固态照具。现有的外延衬底大部分为蓝宝石,蓝宝石的组成为氧化铝张晓东储文艳单乃丽杨帆李箭吴勇碳氢溶剂在板清洗应用可行性研究通信与广播电视年期周海杭寅姚绍峰蓝宝石晶片表面净化技术研究年机械电子学学术会议论文集年张静刘志勇电子装联中水清洗的应用四川省电子学会生产技术专委会先进制造技术成果交流会论文集年韩红江陈月琴张华论切水剂在硅片清洗中应用第十届中。

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蓝宝石晶片清洗设备共页，字数总计：摘要蓝宝石是近年来随着通讯、信息产业迅速发展而开发并产业化的新型材料。它具有硬度高、化学稳定性好、透光性好、热传导性、电磁绝缘性、力学机械性能优良等特点。目前，蓝宝石晶片的超光滑加工技术的研究还不够深入，实际生产中通常采用化学机械研磨抛光技术进行加工。本论文通过对蓝宝石晶片抛光运动轨迹的理论分析和抛光过程的实验研究，研究蓝宝石晶片抛光加工机理，探讨蓝宝石晶片化学机械研磨、抛光工艺，系统分析主要工艺参数对晶片质量的影响。理论分析抛光运动的规律并进行抛光轨迹的计算机仿真，探讨抛光表面形成机理，发现合适的抛光转速和抛光运动参数。得出：对单面化学机械抛光，其合适的抛光盘转速为，工件盘中心到抛光盘中心的距离为；对双面化学机械抛光，抛光盘转速与抛光机内齿圈的转速比值范围应在之间。通过对蓝宝石晶片的化学机械抛光过程的实验研究，掌握测量蓝宝石晶片在不同抛光条件下的面型误差和材料去除率，分析了抛光垫材。

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