单晶石英坩埚喷涂设备

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单晶石英坩埚喷涂设备石英坩埚可在度以下使用，分透明和不透明两种。用电弧法制的半透明石英坩埚是拉制大直径单晶硅，发展大规模集成电路必不可少的基础材料。当今，世界半导体工业发达国家已用此坩埚取代了小的透明石英坩埚。它具有高纯度、耐温性强、尺寸大精度高、保温性好、节约能源、质量稳定等优点。石英坩埚不能和接触，高温时，极易和苛性碱及碱金属的碳酸盐作用。石英质脆，易破，使用时要注意。适于用，作熔剂熔融样品和用先在度烘干作熔剂处理样品。除外，石英玻璃坩埚普通稀无机酸可用作清洗液。国内常用拉制单晶硅用石英坩埚英寸和英寸英寸也有厂家使用及以上的坩埚。目前国内坩埚生产大厂家生产的坩埚技术都比较成熟。其生产使用原料石英砂由美国进口和挪威高纯石英砂两种。也有小厂使用国产料其原料生产的石英坩埚对拉制单晶硅时其稳定性都有一定影响。目前坩埚生产涂层技术已被大多数厂家使用是在普通石英砂溶制的坩埚表面涂上一层二氧化钡溶液使其形成致密层，其致密层能阻。

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单晶石英坩埚喷涂设备石英坩埚涂层机，优点是：能够对石英坩埚内表面进行涂层，涂层效果好，生产效率高，可使坩埚内表面形成一层碳酸钡薄膜，提高石英坩埚的质量和成品率；同时该薄膜在拉制单晶硅时能够隔离单晶硅和坩埚内表面的腐蚀，避免坩埚内表面发生析晶和渗漏，防止拉制单晶硅时的断苞和位错，提高拉制单晶硅的质量和合格率。它有一个不锈钢罐体，在不锈钢罐体内设有石英加热器，在不锈钢罐体底部设有空心主轴，主轴上端插入不锈钢罐体内，在主轴上端连接有转盘，在转盘上端面均布有定位爪，在不锈钢罐体底部固定有电机，主轴下部与电机轴连接，在主轴内插有喷淋器，喷淋器下端设有储料罐，储料罐设有进风口和出料口，所述的储料罐的出料口与喷淋器连通。

单晶石英坩埚喷涂设备石英坩埚在单晶生长中的重要性石英坩埚可说是最重要的元件之一，它不仅能影响长晶的良率，也会影响品质。最早期的石英坩埚是全部的透明的结构，这种透明的结构却容易引起导致不均匀的热传输条件，增加晶棒生长的困难度。现代的石英坩埚则存在二种结构，外侧是一层具有高气泡密度的区域，称为气泡复合层，内侧则是一层的透明层，称之为气泡空乏层。气泡复合层的目的是在与均匀的辐射有加热器所提供的辐射热源。气泡空乏层的目的在于籍着降低与溶液接触区域的气泡密度，而改善单晶生长的成功率及晶棒品质。石英坩埚本身是非晶质的介态能，在适当的条件下他会发生相变化而形成稳定的白矽石结晶态，这种过程一般称之为《无光泽化》,白矽石结晶态的形成包括成核与成长二个阶段，成核通常发生在石英坩埚壁上的结构缺陷或杂质（特别是一些碱性金属或重金属）。初期的白矽石结晶为球状，进一步的成长则是沿着坩埚壁成树枝状往侧向发展，这是因为石英坩埚与溶液的反应时的垂直方向。

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