紫铜抛光平面度

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紫铜抛光平面度深圳市深宏达研磨抛光机器开发部是一家发展迅速、技术配套完善的研磨抛光机器开发制造商,主要研发制造高精度单、双面研磨抛光机系列,广泛应用于金属、非金属平面的精密研磨抛光。质量上本公司一惯坚持精心、精工、精密的理念,从产品的设计、生产组装,直至产品整机检测,每一道程序,每一个环节,深宏达人都以务实的心态,积极的努力,将质量意识落实到每一个员工,落实到每一处细节,并且公司在生产设备及检测体系、检测设备上不断更新不断完善,力求以国际品质要求自身,并融汇国内外同类产品的技术,不断创新、不断进取为广大用户提供国际的生产设备。本公司还致力于高精密平面加工工艺技术的研发,结合国外先进的研磨抛光工艺,在蓝宝石、陶瓷、玻璃、铜、铝及其合金、不锈钢、钼片、钨钢刀片等高精度镜面研磨抛光工艺上,达到了国际先进水平。高精度平面研磨抛光机主要应用于石英晶体片、硅、锗片、光学镜片、蓝宝石衬底、蓝宝石手机玻璃视窗、石英基板、。

紫铜抛光平面度光盘编号:-联化学机械抛光铜表面用的延迟抛光浆液本技术提供用不含聚氨酯的热塑性泡沫抛光体化学机械抛光半导体基片上的金属表面用的浆液。该浆液包含:磨料颗粒稳定剂和酸性缓冲剂,在抛光半导体基片上的金属表面的过程中,所述酸性缓冲剂维持所述浆液处在约.至约.的下。在又一实施方案中,本技术提供体系。该抛光体系包括浆液,其中在抛光半导体基片上的金属表面的过程中,所述浆液维持为约至约。该体系进一步包括抛光垫,所述抛光垫包括具有不含聚氨酯泡沫基底的抛光体,所述抛光体与所述浆液配合作用,以在所述抛光过程中除去部分金属表面。系使用无机氧化物磨料提高铜的平面化的组合物和方法本技术提供了一种可以在小于.千帕的向下压力之下抛光半导体晶片上的铜的水性组合物,所述水性组合物包含重量的氧化剂、重量的用于有色金属的抑制剂、重量的用于有色金属的络合剂、重量的羧酸聚合物、重量的改性纤维素、重量的含磷化合物、以及重量的勃姆石磨料,。

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